日本ゼオンは８月２日、次世代電子部品向けポジ型電子線レジストの新グレード「ＺＥＰ５３０Ａ」シリーズを上市したと発表した。
同社は、半導体デバイスの回路パターンをウェハー上に転写する際に使用される保護膜として、かねてより主鎖切断型のポジ型電子線レジストＺＥＰシリーズを展開し、国内外から広く採用されている。
今回、既存グレード「ＺＥＰ５２０Ａ」で培った技術をベースに、さらなる高解像度を実現したＺＥＰ５３０Ａシリーズを開発し、上市した。ＺＥＰ５３０Ａシリーズは、優れたドライエッチング耐性を保持しつつ、解像度とプロセスウィンドウを向上させた製品で、レジストの薄膜化により、ハーフピッチ 17ｎｍのライン＆スペースパターンの解像も確認している。
また、ＺＥＰ５３０Ａの高解像度を引き出すため、新規現像液「ＺＥＤ―Ｎ６０」も併せて開発・上市した。
主な使用用途としては、次世代電子部品の製造を想定しており、商用化が見込まれる第５世代移動通信システムへも活用の場が広がることが期待される。
同社グループは、今後も最新技術を駆使した製品開発を促進し、顧客にとって価値ある製品の提供に努めていくとしている。
電子顕微鏡での上面の写真
