信越化学工業は、半導体露光材料事業の拡大に向け、４つ目の拠点の工場を群馬県伊勢崎市に建設することを決定した。同市内に約15万㎡の事業用地を取得し、その用地に半導体露光材料の製造及び開発拠点を建設する。新工場の建設地については、複数の候補地を検討した結果、群馬県および同県伊勢崎市の斡旋も受け、用地を選定した。新工場における投資を段階的に実施する計画で、第一期の投資は26年までの完工を目指します。
なお、投資金額は第一期完工の段階で、事業用地の取得も含め約８３０億円を見込み、全て自己資金で賄う。
同社は１９９７年にフォトレジスト事業を立ち上げ、直江津工場（新潟県）で当時の最先端のＫｒＦフォトレジストの生産を開始した後、フォトマスクブランクス、ＡｒＦレジスト、多層膜材料、ＥＵＶレジストなどの半導体露光材料を相次いで開発に成功し事業化した。２０１６年には同事業の第２の生産拠点を福井県に、２０１９年には第３の生産拠点を台湾雲林県に設け、製品の安定供給を果たしてきた。
半導体露光材料は、先端半導体の製造に不可欠な材料として需要が伸長しており、品質への要求も高度化し続けている。顧客からの強い要請に応えるため、事業継続の観点からもリスク分散を図ることが可能な第四４の生産拠点の新設を決定。半導体材料の先進拠点として位置付け、将来は研究開発を含む半導体露光材料ほかの拠点として拡大させていく。
