ゴムタイムス社 ＪＳＲ 化学増幅型ＥＵＶレジストで 世界初の15ナノパターン解像に成功 2011年10月21日 11時 ＪＳＲ㈱（小柴満信社長）は、米国の半導体製造技術研究組合であるＳＥＭＡＴＥＣＨ（セマテック、米テキサス州）と共同で、世界で初めてＥＵＶ（Ｅｘｔｒｅｍｅ Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ＝遠紫外線）リソグラフィを用いて15ナノメートルハーフピッチのパターンが化学増幅型フォトレジスト（感光性樹脂）で形成できるこ……
